Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask

Beskrivelse:

SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica fuktighetsgivende maske er en svært beroligende arkmaske som gir huden umiddelbart påfyll av fuktighet, samtidig som den beroliger og styrker hudbarrieren. Med merkets karakteristiske Hyalu-Cica-formel, en kombinasjon av hyaluronsyre for dyp fuktighet og Centella asiatica-ekstrakt fra Madagaskar for beroligende pleie, bidrar masken til å lindre tørrhet, irritasjon og rødhet i ett forfriskende trinn.

Den lette essensen passer perfekt til alle hudtyper, spesielt tørr eller sensitiv hud, og trekker raskt inn slik at huden føles fyldig, fuktmettet og balansert. Enten du bruker masken som en del av kveldsrutinen eller som en rask fuktighetsboost i løpet av dagen, gir den huden et synlig glattere, roligere og mer strålende utseende.

Anbefales for: Alle hudtyper.

Slik bruker du den:

• Etter rens og toner legger du arkmasken jevnt over ansiktet.
• La virke i 15–20 minutter, fjern deretter masken og klapp forsiktig inn resten av essensen.
• Trenger ikke skylles av.

Ingredienser:

Vann, butylenglykol, glyserin, niacinamid, 1,2-heksandiol, glyserylglukosid, xylitylglukosid, anhydroksylitol, allantoin, karbomer, arginin, xylitol, ekstrakt av Centella asiatica, polyglyseryl-10 laurat, etylheksylglyserin, xantangummi, adenosin, glukose, dinatrium EDTA, hydrogenert lecitin, ekstrakt av bananblomst fra Musa sapientum, blomstervann fra Rosa damascena, pæreekstrakt fra Pyrus communis, fruktekstrakt fra Prunus domestica, skvalan, melonekstrakt fra Cucumis melo, blad-/stengelekstrakt av eføy fra Hedera helix, natriumhyaluronat, ceramid NP, cetyletylheksanoat, kolesterol, frøolje fra Macadamia ternifolia, rapssteroler fra Brassica campestris, oljesyre, stearinsyre, tokoferol, hyaluronsyre 0,1 ppm, hydrolysert hyaluronsyre, hydrolysert natriumhyaluronat, hydroksypropyltrimoniumhyaluronat, kaliumhyaluronat, krysspolymer av natriumhyaluronat, pentylenglykol, natriumacetylert hyaluronat