DER.ESTHE Cica Source Sheet Mask

Beskrivelse:

RNW DER ESTHE Cica Source arkmaske er en beroligende og gjenoppbyggende arkmaske utviklet for sensitiv, irritert eller akneutsatt hud. Den inneholder ekstrakt fra centella asiatica-blader, tetreolje og sypressolje som demper rødhet og bidrar til å bekjempe bakterier som forårsaker akne. Hver maske er gjennomtrukket med 27 ml essens og gir huden rikelig med fuktighet, lindring og støtte til hudbarrieren takket være ingredienser som allantoin, pantenol, betain og natriumhyaluronat.

Masken er laget av gasbind som legger seg tett inntil ansiktet og sikrer at essensen trekker godt inn, med minimal irritasjon og uten å gli lett av. Den er utviklet for alle hudtyper, inkludert tørr, fet, kombinert og sensibilisert hud, og gir både umiddelbar lindring og langsiktig pleie til hud som er utsatt for stress, oppblussing eller ubehag.

Anbefales for: Sensitiv, akneutsatt hud.

Slik bruker du den:

• Etter rens og toner legger du arkmasken jevnt over ansiktet, slik at åpningene passer rundt øyne, nese og munn.
• La virke i 10-15 minutter, og fjern deretter forsiktig.
• Klapp gjenværende essens inn i huden; ikke skyll av.

Tips: For ekstra lindring når huden er betent eller overopphetet, avkjøl masken i kjøleskapet før bruk og trykk den forsiktig mot huden de første minuttene for å kjøle ned og berolige.

Ingredienser:

Vann, metylpropandiol, propandiol, glyserin, alkohol, betain, butylenglykol, polyglyseryl-6 kaprylat, polyglyseryl-4 kaprat, allantoin, pantenol, hydroksyetylakrylat/natriumakryloyldimetyltauratkopolymer, xantangummi, ammoniumakryloyldimetyltaurat/VP-kopolymer, hydroksyetylcellulose, dikaliumglykyrrhizat, ekstrakt fra centella asiatica-blader, etylheksylglyserin, 1,2-heksandiol, sorbitanisostearat, trinatrium-EDTA, hinokisypressolje, natriumhyaluronat, kapryl/kaprintriglyserid, ekstrakt fra hvitpilbark, tetreolje